| dc.description.abstract | Pada penelitian ini telah dibuat NiO/Bentonit dengan cara mengembankan material
semikonduktor NiO pada bentonit, yang akan digunakan untuk mendegradasi
tetrasiklin secara fotokatalitik. Tetrasiklin ialah limbah antibiotik yang dapat
dihasilkan dari industri farmasi. Limbah antibiotik atau tetrasiklin dapat mencemari
lingkungan dan dapat membahayakan bagi ekosistem perairan serta manusia. Maka
diperlukan pengolahan limbah tetrasiklin yang dapat mengurangi serta menghilangkan
limbah tersebut. Penelitian ini bertujuan untuk mengetahui karakteristik NiO yang
terembankan pada bentonit (NiO/Bentonit) dan efektivitas NiO/Bentonit dalam
mendegradasi tetrasiklin. Prosedur penelitian ini diawali dengan sintesis NiO/Bentonit
dengan mencampurkan clay bentonit dengan prekursor NiCl2 dan aquades. Kemudian
dilakukan hidrotermal dengan suhu 150°C selama 1 malam, dilanjutkan dengan
mengeringkan di oven dengan suhu 100°C,lalu dihaluskan sampel dengan cara di
gerus dan dikalsinasi dengan suhu 400°C selama 5 jam dan dihasilkan material
fotokatalis. Karakterisasi material fotokatalis NiO/Bentonit menggunakan instrumen
SEM-EDX, FTIR dan XRD. Sedangkan dalam uji efektivitas diuji menggunakan
tetrasiklin dengan penyinaran menggunakan sinar uv dan sinar tampak, dengan
penambahan dan tanpa penambahan H2O2, serta variasi waktu pengambilan sampel
yaitu: 0, 15, 30, 45, 60, 90, dan 120 menit. Selanjutnya dianalisis dengan
menggunakan instrumen spektrofotometer Uv-Vis. Hasil karakterisasi NiO/Bentonit
dengan menggunakan SEM diperoleh bentuk morfologi bulat tidak beraturan
sedangkan untuk keberadaan NiO ditandai dengan adanya warna putih pada
permukaan. Pada karakterisasi dengan XRD diperoleh serapan NiO/Bentonit pada
daerah 20 32,650; 37,30°; 43,23°; 45,98°, 61,96°, dan 76,42°. Pada hasil
karakterisasi dengan FTIR diperoleh puncak serapan Ni-O pada bilangan gelombang
467,07 cm¹. Hasil uji efektivitas NiO/Bentonit dengan penyinaran sinar uv dan
penambahan H2O2 lebih baik dengan % Degradasi pada waktu 120 menit sebesar
75,30 %. | en_US |